光掩膜製作對環境的要求:
1、恆溫恆濕:
溫度:23±0.5℃(10級淨化房),23±0.3℃(1級淨化房)
濕度:50±5%RH
2、超級淨化:
大多數區域:10級淨化
局部區域:1級淨化(每立方英尺的空間內,直徑大於0.5微米的塵埃顆粒數不能超過1個)。
光掩膜製作人員的要求:
1、心態平穩,作業期間任何時候都能保持沉著冷靜。
2、言行舉止任何細節都達到淨化要求。
3、嫻熟的操作技能,任何一個細微動作都次次做對。
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光掩膜的製作要求
