光掩膜技術研發中心

清溢一直奉行技術先導的發展政策,公司成立之初,國內製作大面積光掩模的技術和人才完全空白。在沒有任何外來技術援助的情況下,清溢科研人員在成立的第二年,就成功研製了國內首張大面積高精度鉻版掩膜版。經過十餘年的自主創新和人才培養,形成了完全自主的核心技術和人才團隊。

公司於2002年成立光掩模技術研究開發中心,並於2007年經深圳市科技和信息局批准成立依託於清溢的「深圳市光掩模技術研究開發中心」。

目前,清溢研發中心,正以「激活內腦、用活外腦」為方針,走產、學、研相結合的道路,聯合國內外相關企業和科研機構開創新技術來源,通過不斷的自主科技創新,推動中國高精度大面積掩膜版製造行業趕超國際一流水平。