光掩膜用於芯片製造,主要是IC(集成電路)芯片,還應用於製作純平顯示器、薄膜磁頭以及PC板等。
光掩膜所起的作用類似於底片之於相片,光刻通過光掩膜在芯片上顯影。 如果圖形通過掩膜版在芯片兩面多次顯影,這種方法就是熟稱的曝光,這個時候的掩膜也可稱為光罩。
鉻版主要應用於:
Tft-lcd、CF、cstn-lcd、stn-lcd、tn-lcd、EL、OLED、PDP、VFD等平板顯示行業;
HDI、FPC等印製線路板行業;
IC Bumping、IC基板、導線架等IC相關行業;
MENS、SENSOR和ENODER等精細電子元器件行業。
