光掩膜用於晶片製造，主要是IC（積體電路）晶片，還應用于製作純平顯示器、薄膜磁頭以及PC板等。
光掩膜所起的作用類似于底片之於相片，光刻通過光掩膜在晶片上顯影。如果圖形通過掩膜版在晶片兩面多次顯影，這種方法就是熟稱的曝光，這個時候的掩膜也可稱為光罩。
鉻版主要應用於：
TFT-LCD、CF、CSTN-LCD、STN-LCD、TN-LCD、EL、OLED、PDP、VFD等平板顯示行業；
HDI、FPC等印製線路板行業；
IC Bumping、IC基板、導線架等IC相關行業；
MENS、SENSOR和ENODER等精細電子元器件行業。
