清溢微亮相2026 IICIE國際積體電路創新博覽會
2026-09-17 17:38
2026年9月9日至9月11日，國際積體電路創新博覽會（IICIE）在深圳國際會展中心盛大舉辦。本屆展會以“跨界融合·全鏈協同，共築特色芯生態”為行業主旨，彙聚5000餘家半導體上下游企業、24萬餘名專業觀眾，搭建起積體電路全產業鏈協同交流平臺。作為國內獨立第三方專業光掩膜製造企業——深圳清溢微電子有限公司（以下簡稱“清溢微”）攜中高端半導體光掩膜全套解決方案亮相15C85展位，以“掩膜版先鋒，芯時代引擎，中國獨立第三方掩膜專家”為參展主題，集中展示佛山生產基地建設進展與產品技術實力，展會期間商務洽談高效順暢，收穫廣泛關注。
圖：清溢微參展團隊
圖：清溢微展臺客商雲集
本屆IICIE展會現場，來自晶圓製造、IC設計、封裝測試、功率器件等領域的行業客商、技術專家紛紛駐足清溢微展位深入交流。公司市場團隊骨幹、資深技術工程師全程駐場接待，一對一講解光掩膜產品、工藝能力與交付方案，副總經理陶飛親臨現場參與商務洽談，並接受展會官方媒體專項採訪。現場通過展出實物樣品、技術展板與工藝流程圖，直觀展示適配邏輯晶片、MCU、功率半導體（含第三代半導體）、射頻器件等領域的掩膜產品。依託全套高精度光刻制版設備體系，搭載EB光刻機、高精度IPRO和AOI檢測系統等行業標準高端產線裝備，具備多元化的產品開發與製造能力。作為國內獨立第三方掩膜廠商，清溢微依託本土化快速回應的服務優勢，吸引眾多產業鏈夥伴駐足、深度交流。
圖：展會客戶和行業朋友洽談合影
展會同期舉辦的先進材料發展大會上，陶飛副總經理受邀登臺，發表題為《中高端半導體光掩膜版的機會和發展展望》的專題演講。演講從行業現狀、市場機遇、行業瓶頸、清溢微佈局、未來趨勢五大維度展開，闡述光掩膜作為半導體製造“晶片底片”的核心價值。陶總在演講中指出行業三大發展趨勢：獨立第三方掩膜廠商迎來市場機遇、掩膜製造精度持續趨向精細化、國產替代進程全面加速。在AI、新能源汽車等技術驅動下，國內晶圓廠持續擴產，頭部Fab廠更傾向將28nm以上成熟制程掩膜交由第三方供應商；國內新增大量12英寸產線，帶動掩膜精度走向精細化，55nm、40/28nm等工藝制程開發，催生精細掩膜需求；本土廠商迎來發展窗口期，在150-28nm中高端節點迎來國產替代核心機會。
圖：陶飛（副總經理）登臺演講
依託清溢光電二十餘年光掩膜行業積澱，佛山清溢微高端半導體掩膜版生產基地已搭建規模化潔淨產線，建成數位化、智能化工廠體系，依託MES、ERP系統實現生產全流程數位化管控，穩步推進40nm、28nm節點掩膜產品落地，為國內晶片產業提供穩定可靠的本土掩膜供給。
面對半導體產業快速發展機遇，清溢微將持續加大研發投入，堅持“量產一代、研發一代、規劃一代”的研發策略，持續推進先進節點掩膜的技術驗證與產能擴建。清溢微不僅著力補齊國產掩膜產品供給短板，又在產品品質、良率穩定性、交付週期、客戶服務層面對標國際一流水準，致力於成為國內晶片企業長期信賴的掩膜版戰略合作夥伴。
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