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光掩膜用於晶片製造,主要是IC(積體電路)晶片,還應用于製作純平顯示器、薄膜磁頭以及PC板等。
光掩膜所起的作用類似于底片之於相片,光刻通過光掩膜在晶片上顯影。如果圖形通過掩膜版在晶片兩面多次顯影,這種方法就是熟稱的曝光,這個時候的掩膜也可稱為光罩。

鉻版主要應用於:
TFT-LCD、CF、CSTN-LCD、STN-LCD、TN-LCD、EL、OLED、PDP、VFD等平板顯示行業;
HDI、FPC等印製線路板行業;
IC Bumping、IC基板、導線架等IC相關行業;
MENS、SENSOR和ENODER等精細電子元器件行業。


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