深圳清溢微首次亮相九峰山論壇暨化合物半導體產業博覽會CSE 2025
2025-05-08 15:00
2025年4月23日，第三屆九峰山論壇暨化合物半導體產業博覽會（CSE 2025）在武漢光穀科技會展中心盛大開幕。作為國內化合物半導體領域規模最大、規格最高的標杆性展會，本屆博覽會彙聚了全球近300家企業及十餘家頂尖科研機構參展，產業鏈覆蓋了材料、設備、EDA、工具製造到終端應用全環節，展覽規模達2萬平方米，參會人數突破2萬人次。深圳清溢微電子有限公司（以下簡稱“清溢微”）作為中國獨立第三方半導體掩膜專家受邀參會，清溢微攜其高端掩膜版技術及創新成果首次亮相，成為展會上半導體材料領域的焦點企業之一。
圖一：清溢微參展團隊
本屆博覽會以“智慧光穀 啟動未來”為主題”，提出“科技、產業、人文，於智慧山頂相逢”的概念，強調技術突破、產業落地與文化賦能的協同發展。清溢微在展會上展示了其在化合物半導體製造中的關鍵掩膜版技術賦能化合物半導體製造能力，重點展出了6英寸130nm Binary/PSM mask，9英寸和14英寸掩膜版產品，以上產品廣泛應用於FAB/IDM/先進封裝線等客戶領域。清溢微展示的掩膜版產品在矽基與化合物半導體材料（如碳化矽、氮化鎵）中起到了關鍵圖形轉移作用，產品要求零缺陷，這推動了化合物半導體晶片性能與功能密度的提升。
圖二：客戶來展臺諮詢交流
在為期3天的會展中，清溢微的展臺吸引了九峰山實驗室、國家第三代半導體技術創新中心、平湖實驗室等頂尖科研機構和長江存儲等產業鏈頭部企業的關注。化合物半導體上下游企業家，研究者，行業專業人士紛紛駐足諮詢交流，清溢微副總經理陶飛帶領的市場和技術團隊，積極熱情、專業地解答每一位來訪者的各類問題，展臺現場討論氣氛熱烈，為此次展會增添了一道亮麗的風景線。
圖三：客戶來展臺現場洽談合作
圖四：高校師生參觀展臺
化合物半導體的快速發展對掩膜版精度提出了更高要求也帶來更多的市場機會。清溢微目前的掩膜版產品主要在第二代、第三代化合物半導體中使用，公司同步在跟蹤第四代化合物半導體的技術發展，同時將持續加大研發投入，並與九峰山實驗室等機構合作，計畫在未來三年內，依託深圳和佛山兩個基地的產能擴張和技術升級，擴大掩膜版在化合物半導體（如砷化鎵、磷化銦、碳化矽、氮化鎵、氧化鎵等）中的應用。公司位於佛山的掩膜版生產基地專案已進入建設關鍵階段，預計今年下半年將投產運行，產能可覆蓋8寸及12寸晶圓廠高節點的掩膜版開模需求。清溢微未來將進一步提升半導體行業國產替代能力，支持國內半導體市場的快速增長和發展。
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