完滿收官丨清溢微SEMICON China 2025 精彩回顧
2025-04-09 09:48
2025年3月26日至28日，以"跨界全球•心芯相聯"為主題，備受矚目的SEMICON China 2025在上海新國際博覽中心圓滿落幕！作為全球半導體行業最具影響力的盛會之一，本屆展會展覽面積達10萬平方米，吸引了全球1400多家知名企業參展，參展人數預估超過15萬人次。展會涵蓋晶片設計、晶圓製造、封裝測試、EDA/IP、半導體設備及材料等全產業鏈。深圳清溢微電子有限公司（以下簡稱“清溢微”）作為中國獨立第三方掩膜專家亮相此次SEMI CHINA展會，與行業夥伴深入交流，共探發展機遇，充分展現了其在半導體材料行業中的創新實力和技術底蘊。
圖一：SEMICON China 2025展會現場
在為期三天的行業盛會中，清溢微的展臺現場氛圍非常熱烈，諮詢聲、討論聲相互交織、連續不斷。本次SEMI CHINA展會，清溢微以其深厚的技術積累和持續創新的成果，吸引了眾多行業專業人士的關注。國內外半導體行業的企業家、協會領導、技術專家、高校學者及供應鏈專家紛紛在清溢微展臺前駐足，給業界留下了深刻印象。
圖二：清溢集團參展人員合照
此次清溢微展位上，集中展出了多款掩膜版產品，其中包括六英寸130nm Binary Mask ,130nm PSM Mask ,150nm Mask等多倍版（4:1/5:1）廣泛使用於Fab/IDM 6寸，8寸以及12寸晶圓線的掩膜版產品，以及14英寸，9英寸，7英寸廣泛使用於先進封裝線的掩膜版產品。
圖三清溢微參展接待團隊合照
清溢微的業務和技術人員全程以飽滿的熱情接待各方來客，細緻解答各類問題，與各方深入探討合作機遇與技術革新方向。
圖四：海外客戶蒞臨展會洽談業務
展會期間，清溢微還接受了各地行業協會、投資者、半導體產業聯盟以及國內外媒體的參觀和採訪。
圖五：清溢微在展會接待各方客戶
半導體掩膜版是晶片製造的關鍵工具，用於半導體製造的光刻環節，對晶圓光刻的品質有重要影響。作為光刻複製圖形的基準和藍本，掩膜版是連接晶片設計和晶片製造的關鍵，掩膜版的精度和品質水準會直接影響最終下游製品的良品率。以晶圓製造為例，其製造過程需要經過多次曝光工藝，利用掩膜版的曝光掩蔽作用，在半導體晶圓表面形成柵極、源漏極、摻雜窗口、電極接觸孔等結構。清溢微作為國內真正的獨立第三方掩膜版公司，始終堅持同廣大Fab廠及IDM公司合作共贏理念，一起讓科技為人類造福。
在SEMICON China 2025展會上,清溢微充分展示了在掩膜版領域的技術實力與創新精神，進一步提升了公司的品牌知名度與行業影響力。我們將把展會上收集到的寶貴建議與合作機遇轉化為實際行動，持續加大研發投入，不斷優化產品與服務，為推動半導體產業的發展貢獻力量。
展望來年，清溢微將緊跟中國半導體行業發展步伐，圍繞中高端半導體晶片製造領域，持續加大研發投入和投資。佛山建設180nm~28nm高端掩膜版生產基地預計將在2025年底投產，屆時清溢微將憑藉高節點掩膜版產品勇攀行業高峰，助力科技發展。
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