清溢微2026 SEMICON China圓滿收官

2026-04-14 16:05

為期三天的2026 SEMICON China於3月27日在上海新國際博覽中心落下帷幕。國內領先的半導體光掩膜製造商深圳清溢微電子有限公司（以下簡稱“清溢微”）攜多款高端光掩膜產品及解決方案入駐本屆盛會，憑藉其在佛山新工廠高節點掩膜版的技術突破與穩健的量產能力，吸引了半導體產業鏈上下游眾多客戶的高度關注，展會期間達成的交流合作成果豐碩。

圖：清溢微參展團隊

本屆SEMICON China上，清溢微展臺人頭攢動，交流氛圍異常熱烈。清溢微展出的針對高性能計算、車規級晶片及第三代半導體等領域的高端光掩膜解決方案，成為現場關注的焦點。通過實物展示、Roadmap看板及工程師現場講解，清溢微全方位展現了其在40nm及以上制程的光掩膜製造領域的最新量產成果。

圖：到展臺諮詢的各界朋友

當前半導體工藝制程持續微縮、本土化供應鏈需求日益迫切。光掩膜是半導體製造的核心材料，作為晶片設計與晶圓製造之間的關鍵橋樑，其精度與良率直接決定著晶片的性能與量產效率，光掩膜的自主可控對於本土產業鏈安全至關重要。清溢微作為產業鏈上游的關鍵一環，正加速推進其高端光掩膜技術迭代升級，為國產替代本土化進程按下加速鍵。公司總經理及副總親臨展會現場，與多家國內頭部晶圓廠、IC設計公司及封裝企業進行了深入交流。SEMICON是全球半導體行業的風向標，本屆SEMICON讓我們深刻感受到，業界對於高質量、高可靠性的本土光掩膜需求極為迫切。清溢微憑藉在光掩膜領域多年的技術積累，已成功構建起覆蓋 250nm，180nm，130nm，110/90nm，55/40 nm 的完整技術圖譜。我們不僅關注技術的突破，更致力於通過穩定的產能交付、卓越的品控能力和敏捷的客戶服務，成為支撐中國半導體產業高質量發展的堅實後盾。

圖：到展臺諮詢的各界朋友

通過此次參展，清溢微不僅展示了其在高端光掩膜國產化進程中的階段性成果，更明確了未來的發展方向。清溢微表示，將繼續加大研發投入，加速推進40nm/28nm節點光掩膜技術的研發驗證與量產能力建設，進一步提升在車規級晶片、高端邏輯晶片及記憶體等關鍵應用領域的市場佔有率。我們希望通過持續的技術創新，不僅解決“有無”問題，更在品質、服務和穩定性上達到國際一流水準，成為客戶值得信賴的長期夥伴。