光掩膜製作對環境的要求：
1、恒溫恒濕：
溫度：23±0.5℃（10級淨化房），23±0.3℃（1級淨化房）
濕度：50±5%RH
2、超級淨化：
大多數區域：10級淨化
局部區域：1級淨化（每立方英尺的空間內，直徑大於0.5微米的塵埃顆粒數不能超過1個）。

光掩膜製作人員的要求：
1、心態平穩，作業期間任何時候都能保持沉著冷靜。
2、言行舉止任何細節都達到淨化要求。
3、嫺熟的操作技能，任何一個細微動作都次次做對。