光掩膜製作對環境的要求: 1、恒溫恒濕: 溫度:23±0.5℃(10級淨化房),23±0.3℃(1級淨化房) 濕度:50±5%RH 2、超級淨化: 大多數區域:10級淨化 局部區域:1級淨化(每立方英尺的空間內,直徑大於0.5微米的塵埃顆粒數不能超過1個)。
光掩膜製作人員的要求: 1、心態平穩,作業期間任何時候都能保持沉著冷靜。 2、言行舉止任何細節都達到淨化要求。 3、嫺熟的操作技能,任何一個細微動作都次次做對。