搜索
新聞中心

新聞中心
NEWS

資訊分類
/
/
/
日本掩膜版研討會行

日本掩膜版研討會行

  • 分類:公司新聞
  • 作者:
  • 來源:
  • 發佈時間:2016-11-18 09:46
  • 訪問量:

日本掩膜版研討會行

  • 分類:公司新聞
  • 作者:
  • 來源:
  • 發佈時間:2016-11-18 09:46
  • 訪問量:

 應Mycronic邀請,今年四月上旬,我司出席了其舉辦的2016年掩膜版研討會。

會議在日本橫濱太平洋展覽中心舉行,這是全球唯一一個大面積掩膜版的技術研討會,來自世界各地大約150名相關人員參加了會議。

會議介紹了TFT面板的未來發展趨勢,PPI從500PPI往800PPI發展,面板的解析度從2um往1um發展,CD從+/-0.2um往+/-0.1um發展,Overlay從+/-0.65um往+/-0.35um發展,相應的Panel局部平整度也從6um要求到2um。而一批技術開發也應運而生:

1、Canon計畫推出的新型DUV曝光機,用<375nm的DUV段代替原來的i,g,h波段,可以把線縫解析度提升到1.2um。

2、Mycronic推出了P800光刻機,在P80光刻機的基礎上,採用最新定制的Final Lens,NA提升25%,像場畸變減少3—5倍,Pixel Size縮減20%,把最小線縫從0.75um減少到了0.55um,同時把原來的9Beam描畫提升到15Beam,這樣在大幅度提升解析度和CD uniformity的基礎上,仍然保持了與P80同樣的描畫速度。

3、新型的i-line Pellicle和幹法蝕刻也將應用於TFT掩膜版,以配合DUV曝光機和PSM,增加曝光DOF,提升CD uniformity。

4、Mask的平整度對於Panel曝光品質的影響被深入研究。Nikon公司Shimizu經理介紹了掩膜版的平整度不好將造成曝光離交,影響CD;造成變形,影響位置精度和套合。超平坦掩膜版也得以誕生,這種掩膜版的整版平整度可以達到5um,局部可以達到2um,但是目前尚未發現並證明有能夠測量如此大面積、高精度平整度的測量機存在!

5、為了應對高端封裝、MEMS、LED、3D molds的要求,在這次會上,Mycronic還推出了FPS-X光刻機,這是FPS-5500的升級版,這台機器減小了Pixel size(23%),提升了圖形品質,同時把3Beam 鐳射增加到5Beam,掃描寬度加寬一倍,大大提升了描畫速度。

展廳位於橫濱海邊,環境優美,又恰逢日本櫻花季,路旁櫻花成片,賞心悅目,不虛此行!

版權所有©2021 深圳清溢光電股份有限公司 粤ICP备13083659号 網站建設:中企動力 深圳