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網站首頁 >> 光掩膜技術研發中心
        清溢光電一直奉行技術先導的發展政策,公司成立之初,國內製作大面積光掩模的技術和人才完全空白。在沒有任何外來技術援助的情況下,清溢光電公司科研人員在成立的第二年,就成功研製了國內首張大面積高精度鉻版掩膜版。經過十餘年的自主創新和人才培養,形成了完全自主的核心技術和人才團隊。

        公司於2002年成立光掩模技術研究開發中心,並於2008年經深圳市科技和信息局批准成立依託於清溢公司的“深圳市光掩模技術研究開發中心”。

        目前,清溢光電研發中心,正以​​“激活內腦、用活外腦”為方針,走產、學、研相結合的道路,聯合國內外相關企業和科研機構開創新技術來源,通過不斷的自主科技創新,推動中國高精度大面積掩膜版製造行業赶超國際一流水平。